半导体制造
更新时间：2026-08-01
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活跃于半导体制造的各个环节
流程详情
半导体技术为各种日常生活中bu可或缺的设备提供支持，包括计算机、智能手机、家用电器、汽车和医疗设备。半导体制造需要大量的工艺流程，例如蚀刻、清洗、薄膜沉积、离子注入和平面化。这些制造工艺采用zui xian进的制造设备和组件，以满足性能、可靠性、安全性和环境影响等各个方面的严格要求。荏原公司业界ling xian的技术能力为日益小型化和高效的半导体制造基地提供了支持。
过程中的应用示例
干式真空泵：用于半导体前端和后端工艺（如 CVD、刻蚀和离子注入）的真空工艺设备。
废气处理设备：用于处理半导体制造过程中产生的有害气体。
臭氧水生产设备：用于晶圆清洗和光刻胶去除。
CMP设备：平面化工艺
EV-M 型
干式真空泵是节能和高负荷工艺的理想选择。
荏原独特的高温技术使其能够在半导体、液晶和太阳能电池制造等产生反应副产物的高负荷工艺中运行。其高能效可同时实现高负荷工艺能力和节能效果。标配耐腐蚀材料，并提供排气量高达110,000升/分钟的大排量型号。凭借丰富的产品系列，可满足各种工艺条件，从而应对广泛的高负荷工艺。
| 模型 | 单元 | EV-M20N | EV-M102N | EV-M202N | EV-M302N | EV-M502N | EV-M505SF | EV-M802N | EV-M805SF | EV-M1205SF | |
| 冷却水 | 流速 | 升/分钟 | 3-8 | 3-8 | 3.5~8 | 4-8 | 5-8 | 5-8 | 5-8 | 5-8 | 5-8 |
| 温度 | ℃ | 最多 30 | 最多 30 | 最多 30 | 最多 30 | 最多 30 | 最多 30 | 最多 30 | 最多 30 | 最多 30 | |
| 电源 | 功率容量 | 千伏安 | 3.3 | 5.4 | 6 | 6.8 | 7.1 | 15.7 | 8.3 | 19.4 | 14.2 |
| 排气速度 | 升/分钟 | 1800 | 10000 | 20000 | 30000 | 50000 | 50000 | 80000 | 80000 | 110000 | |
| 极限压力 | 宾夕法尼亚州 | 5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | 0.5 | |
| 连接端口直径 | 进气口 | 西北40 | ISO100 | ISO100 | ISO100 | ISO160 | ISO160 | ISO200 | ISO200 | ISO200 | |
| 排气口 | 西北40 | 西北40 | 西北40 | 西北40 | 西北40 | 西北40 | 西北40 | 西北40 | 西北40 | ||
| 达到压力时的近似功率值 | 千瓦 | 1.2 | 1.8 | 1.9 | 2.3 | 2.1 | 3.9 | 2.8 | 4.6 | 5.3 | |
| N2 | 流速 | 帕·米³/秒 | 26-31 | 26-31 | 26-31 | 26-31 | 28-33 | 228 | 28-33 | 228 | 34-35 |
| 电源相数/电压/频率 | 200V 型号 | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | 三相/200V/50Hz 三相/200-220V/60Hz | |
| 400V 型号 | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | - | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | 三相/380-400V/50Hz 三相/380-440V/60Hz | ||
| 近似质量 | 公斤 | 170 | 320 | 360 | 400 | 500 | 580 | 740 | 820 | 870 | |
