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| 品牌 | EBARA/荏原 | 供货周期 | 现货 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子/电池,航空航天,电气 |
进口EBARA荏原EV-X30N 无油干式真空泵
这款用于中等负荷工艺的干式真空泵采用了荏原专有的节能技术，并采用了针对自动化工厂制造而优化的模块化设计，从而实现了进一步的小型化和节能。
宽范围温度控制拓展了适用工艺的范围。由于同一型号设备可覆盖多种工艺，因此优化了备用设备库存，减少了维护和培训工作量，并可灵活适应未来的工艺扩展。此外，针对每项工艺进行优化的温度控制可提高工艺容差，延长部件更换周期，从而降低设备总成本 (TCoO)。
适用应用实例：各种蚀刻和 CVD 工艺、灰化、离子注入、外延生长等。
EV‑X100N：抽速10,000 L/min，极限真空0.5 Pa
EV‑X200N：抽速20,000 L/min，极限真空0.5 Pa
EV‑X300N：抽速30,000 L/min，极限真空0.5 Pa
EV‑X30N：小流量机型，抽速3,000 L/min
电源：3 相 200–220V / 50/60Hz，频率自适应
能耗：较上代节能 25%–50%，底压功耗约0.9–1.5 kW
占地：比同级小 **≈30%**，Sub‑Fab 更易布局
泵型：多级螺杆干式泵（无油、无水），转子优化设计，适合大流量、中高真空。
材质：标准耐腐蚀（316L / 镍基合金），可选高腐蚀强化包（应对 Cl/F 系）。
温控：宽域高温控制，抑制粉尘沉积、防止副产物凝结，适配刻蚀 / CVD / 灰化。
驱动：IE5 超高效电机，内置振动 / 温度 / 电流传感器，支持Modbus/Profinet，适合 Fab 智能运维。
刻蚀（Etch）：DRIE、RIE、干法刻蚀（主流应用）
CVD：PECVD、HDP‑CVD、ALD（沉积腔主抽）
灰化（Ashing）：光刻胶去除、等离子清洗
离子注入（Ion Implant）：中真空段粗抽
外延（Epi）：Si/GaN 外延炉排气
PVD / 溅射：溅射腔、沉积系统主抽
多工艺兼容：一台覆盖刻蚀 / CVD / 灰化，减少备用泵库存、简化维护。
低拥有成本（TCoO）：节能 + 长寿命 + 少维护，长期成本更低。
耐腐蚀强：标准耐酸碱 / 卤素，故障率低、停机少。
安全合规：SEMI‑S2、CE、NRTL认证，符合半导体 Fab 规范
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