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| 品牌 | EBARA/荏原 | 供货周期 | 两周 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子/电池,汽车及零部件,电气 |
一、日本进口BARA荏原干式真空泵核心型号与参数：（50Hz）
| 型号 | 抽速 (L/min) | 极限压力 (Pa) | 进气口 | 排气口 | 功率 (kW) | 重量 (kg) |
|---|---|---|---|---|---|---|
| EV‑M20N | 1,800 | 5.0 | NW40 | NW40 | 1.2 | 170 |
| EV‑M102N | 10,000 | 0.5 | ISO100 | NW40 | 1.8 | 320 |
| EV‑M202N | 20,000 | 0.5 | ISO100 | NW40 | 1.9 | 360 |
| EV‑M302N | 30,000 | 0.5 | ISO100 | NW40 | 2.3 | 400 |
| EV‑M502N | 50,000 | 0.5 | ISO160 | NW40 | 2.1 | 500 |
| EV‑M802N | 80,000 | 0.5 | ISO160 | NW40 | 2.8 | 740 |
二、日本进口BARA荏原干式真空泵关键特点：
多级罗茨结构：高抽速、低脉动、适合大量副产物 / 腐蚀性气体。
低能耗：较传统干式泵省电 30%+；50/60Hz 性能一致。
耐腐蚀：标准防腐材质，可选强化防腐，适配刻蚀 / CVD 等严苛工艺。
水冷 + 智能控制：高温稳定运行；SEMI‑S2/CE/NRTL认证。
无油洁净：无油，满足半导体高洁净要求。
三、典型应用：
半导体：CVD、PECVD、ALD、RTP、刻蚀。
光伏 / 液晶：镀膜、扩散、刻蚀等高负荷工艺。
化工 / 通用真空：腐蚀性气体、高排气量场景。
四、电源与冷却：
电源：3 相 200V (50Hz)/200–220V (60Hz)。
冷却水：3–8 L/min（依型号）。
氮气吹扫：15–20 L/min（防粉尘 / 结垢）。
五、运用场景：（一句话总结：高负载、多副产物、腐蚀性、大抽速工艺**）
1）半导体（*核心）
2）显示面板（LCD/OLED）
3）光伏（PERC、TOPCon、HJT）
4）化工 / 通用真空
5）科研 / 高能物理
太空模拟舱、加速器、大腔体高真空排气
腐蚀性气体、溶剂蒸气、大量粉尘 / 聚合物
真空干燥、反应釜、蒸馏、冶金热处理
扩散、PECVD、镀膜、刻蚀 高负荷产线
硅粉、浆料副产物多，要求耐高温 + 防结垢
大型玻璃基板 PECVD、溅射（Sputter）、镀膜
高粉尘、大排气量、长时间连续运行
CVD / PECVD / LPCVD / HDP‑CVD / MOCVD（二氧化硅、氮化硅、金属有机副产物多）
ALD、RTP、刻蚀（Etch）（含氟 / 氯腐蚀性气体、粉尘）
Load Lock / 传输腔粗抽（大流量、频繁启停）
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