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| 品牌 | HORIBA/堀场 | 价格区间 | 面议 |
|---|---|---|---|
| 产品种类 | 质量式 | 介质分类 | 气体 |
| 产地类别 | 进口 | 应用领域 | 电子/电池,航空航天,电气,半导体,机械设备 |
HORIBA 堀场半导体差压式质量流量控制器
HORIBA 堀场半导体差压式质量流量控制器
CRITERION™ D700uF 系列专为 5 SCCM 或更低流量的应用而设计。在半导体制造中，低流量控制对于高深宽比结构的微加工工艺至关重要。通过开发专用于低流量测量的组件，以及在京都福知山技术中心新开发的流量参考仪器（确保可追溯至国家标准），现在可以高精度地测量和控制低至 0.025 SCCM 的低流量。
精确控制低流量气体（例如流量控制调谐气体）的最小流量为 0.025 SCCM 。
实现了小于 100 毫秒的高速响应，减少了 MFC 之间的机器差异，提高了生产率和工艺性能。
我们所有自主生产的流量测量
产品都具有很高的可靠性。
状态监测功能
提供更多内部数据，从而实现更智能的故障预测。
PFA阀门具有优异的阀门关闭性能和耐腐蚀性，
从而减少停机时间并优化产量。
CRITERION D 分两代：D500MG（初代）、D700 全系列（新一代主力，兼容 D500 安装尺寸），均为压电阀 + 层流差压检测，压力不漂移，半导体 ALD / 刻蚀 / 薄膜专用。
| 基础型号 | 量程覆盖（N₂满量程可选） | 流量档位定位 | 通信标配 | 适用工艺 |
|---|---|---|---|---|
| D512MG | 10 SCCM ~ 1 SLM | 微小流量 | EtherCAT/MR・MG 多气体 | 微小气体、ALD 前驱体 |
| D514MG | 100 SCCM ~ 10 SLM | 中小流量 | EtherCAT/MR·MG | 刻蚀、薄膜通用工艺 |
| D524MG | 1 SLM ~ 10 SLM | 中流量 | EtherCAT/MR·MG | CVD、沉积主路气体 |
| D52MG（D52 系列） | 10 SLM ~ 50 SLM | 中大流量 | EtherCAT | 大载气、批量腔体供气 |
| 基础型号 | 标准满量程区间 | 流量等级 | 核心特性 |
|---|---|---|---|
| D712MG | 5 SCCM ~ 1 SLM | 超微流量 | 0.5%~100% 宽控制区，微小腐蚀气体 |
| D714MG | 10 SCCM ~ 10 SLM | 小中流量 | 量产刻蚀、PVD 标配 |
| D722MG | 1 ~ 7.5 SLM | 中流量 | 高低压腔体通用 |
| D724MG | 5 ~ 30 SLM | 中大流量 | 多通道沉积、3D NAND |
| D734MG | 10 ~ 50 SLM | 大流量 | 高载气流量工艺 |
| D717MG | 50 ~ 100 SLM | 超大流量 | 批量机台总供气 |
| 型号 | 产品定位 | du有优势 | 应用场景 |
|---|---|---|---|
| D700uF | 超微流量专用 | zui低 0.025 SCCM 可控 | 先进制程微量掺杂、实验室精密工艺 |
| D700WR | 超宽量程款 | 0.1%~100% FS 控制区间 | 高低流量切换频繁工序 |
| D700T | 双阀高隔离款 | 双压电阀，超低泄漏 | 剧毒 / 强腐蚀气体（WF₆、Cl₂、HF） |
型号后缀含义（完整型号举例：D714MG EC MR・MG）
MG：多量程 + 多气体算法（MR・MG 功能）
EC：EtherCAT 总线（半导体设备主流）
14C3/14W3：接口规格（1/4 VCR 金属密封）
H/M/L：入口压力档位
H：350~750 kPa (A) 高压供气
M：240~450 kPa (A) 标准半导体压力
L：110~350 kPa (A) 低压供气
S/T：连接器位置（S 侧面、T 顶部）
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