简要描述：日本THOMAS托马斯 T系列敞开台式恒温水浴
这些产品用途广泛，包括低温测试和样品维护箱的温度控制，以及通过流体介质循环冷却外部设备。可以根据自身特定需求，选择合适的产品，并考虑不同的温度范围、容量、冷却能力、控制方式以及是否配备循环泵等因素。

一、通用核心特点

1. 控温系统：全系列数字化 PID 闭环控温，常规机型 ±0.05~±0.1℃稳定度，超低温机型 ±1.5℃；分辨率 0.01℃，温控精准无漂移。

2. 搅拌结构：du家喷射双流搅拌，无叶片低噪音，槽内温度均匀，杜绝局部温差，平行实验数据一致性高。

3. 材质与环保：内胆 SUS304，腐蚀工况可选 SUS316；全系 HFO 环保冷媒，无氟利昂，符合无尘车间、工业环保标准。

4. 双工作模式

• 内置浸泡：样品、烧杯、容器直接放入槽内恒温；

• 外接循环：选配循环泵，对外接反应釜、仪器腔体、管路输送恒温冷媒。

5. 安全防护：漏电保护、超温停机、低水位报警、传感器故障自检、压缩机延时保护，可 7×24 小时连续运行。

、基础常温加热水浴（无制冷，仅加热恒温，T3、T4 系列）

1、T3 / T3D

• T3（标准浅槽）

  温控：室温 + 5℃ ~ 60℃（短时最高 80℃），稳定度 ±0.1℃

  容积：17L，槽深 160mm，聚丙烯内胆

  搅拌：喷射搅拌，加热功率 1000W

• T3D（加深槽）

  同温控，槽深 200mm，高容器浸泡专用，其余参数与 T3 一致

2、T-4 / T-4D / T-4M / T-4MD / T-4J

• T-4：浅槽聚丙烯内胆，17L，室温 + 5~60℃

• T-4D：加深聚丙烯内胆，17L

• T-4M：浅槽 SUS304 不锈钢内胆

• T-4MD：加深 SUS304 不锈钢内胆

• T-4J：小型不锈钢浅槽，小试样微量恒温

3、振荡常温款 T-4S、T-4SJ

二、主力低温制冷敞开台式水浴（带压缩机制冷，半导体行业常用）

1、T-10L（迷你入门低温款）

• 温控：5℃ ~ 40℃

• 容积：15L，槽内尺寸 350×350×150mm

• 稳定度：±0.1℃，制冷功率 186W，500W 加热

• 特点：体积小巧、桌面紧凑型、环保无氟冷媒

• 适用：小件样品恒温、芯片小样浸泡、粘度简易测试

2、T-22LA（标准版低温水浴，T22 经典主力）

• 温控：0℃ ~ 50℃

• 容积：21L，槽深 150mm

• 稳定度：±0.1℃，制冷功率 198W，自带基础外循环接口

• 定位：实验室通用、半导体小型清洗槽恒温、旋蒸冷凝配套

3、T-22LD（加深大容量环保款）

• 温控：0℃ ~ 50℃，HFO 无氟环保冷媒

• 容积：29L，槽深 200mm（加深槽体）

• 稳定度：±0.1℃，制冷功率 230W

• 优势：可放置高烧杯、大批量样品，半导体晶圆批量漂洗shou选

4、T-23Z（超高精度旗舰低温款）

• 温控：0℃ ~ 50℃

• 容积：21L

• 稳定度：±0.02℃（全系 T 系列精度最高），0.01℃数显分辨率

• 配置：定时启停、双喷射搅拌、高精度 PID

• 适用：精密理化标定、半导体元器件高精度恒温检测

三、T 系列恒温振荡低温水浴（恒温 + 震荡一体）

T-22LAS（低温振荡水浴）

• 温控：5℃ ~ 50℃，稳定度 ±0.1℃，容积 21L

• 振荡参数：12~110 次 / 分钟，振幅三档可调（20/30/40mm）

• 用途：化学萃取、生物样品震荡培育、半导体清洗助剂震荡混匀

T-22SA、T-22SJ（常温振荡水浴）

T 系列全型号精简一览表