近日,日本 NFK 南国工业株式会社(南国フレキ工業)完成 NK-2300 系列半导体专用真空波纹管技术升级,面向先进制程刻蚀、薄膜沉积、等离子处理设备推出优化版本,进一步满足 12 英寸晶圆产线对超高洁净真空零部件的严苛标准。
随着半导体工艺持续微缩,机台真空管路的微量释气、微粒产生、长期循环疲劳泄漏问题成为制约良率的关键痛点。本次升级后的 NK-2300KF、NK-2300PT 波纹管采用一体无缝液压成型工艺,规避传统焊接波纹管焊缝微缺陷风险;管体内壁升级高精度电解抛光工艺,表面粗糙度稳定控制在 Ra<0.2μm,有效降低颗粒物附着与气体吸附。产品氦检漏率可达≤1×10⁻¹⁰ Pa・m³/s,耐受 - 196℃~300℃宽温循环烘烤,符合 SEMI 洁净规范。
全新产品线覆盖 KF 标准法兰、微型管端式多种结构,可吸收真空泵振动、补偿管路热伸缩与装配偏差,广泛适配真空腔体、分子泵机组、机台内部狭小高纯气路。NFK 南国工业表示,新品已开启面向国内半导体设备厂商、晶圆制造企业的样品测试,依托亚太本地化技术服务网络,提供非标长度、定制法兰接口快速开发支持,缓解gao端真空柔性零部件交付周期压力。