NFK 南国工业 PVD/CVD 薄膜沉积设备适配高真空KF法兰真空波纹管

核心技术参数

1. 标准接口：KF10 / KF16 / KF25 / KF40 / KF50

2. 波纹管材质：SUS316L（半导体标配）/ SUS304 可选

3. 波纹类型：CLT 超柔波纹；支持 STD 标准波纹定制

4. 有效长度：100mm～3000mm，非标长度可定制

5. 检漏标准：氦检漏率 ≤1.33×10⁻¹⁰ Pa・m³/s

6. 内壁粗糙度：Ra＜0.2μm，低释气、低微粒析出

7. 使用工况：高真空（FV）～0.1MPa

8. 使用温度：-196℃～150℃，支持阶段性烘烤除气

9. 核心功能：吸收真空泵振动、补偿管路热伸缩、修正设备装配错位

半导体典型运用场景

1. 刻蚀设备、PVD/CVD 薄膜沉积设备：分子泵、干泵与真空腔体之间柔性连接，阻隔泵体振动传导至工艺腔体，避免晶圆曝光、镀膜精度受振动干扰。

2. 等离子清洗机、去胶设备：腔体抽气支路、真空阀组连接管路，适配频繁启停真空循环工况。

3. EFEM 晶圆传输单元、真空载台配套管路：设备内部狭小空间布线，依靠优异弯曲性能适配紧凑安装结构。

4. 半导体检测设备、探针台真空系统：维持高真空稳定度，杜绝微小泄漏影响测试良率。