简要描述：日本THOMAS托马斯 TRL系循环精密低温恒温槽
这些产品用途广泛，包括低温测试和样品维护箱的温度控制，以及通过流体介质循环冷却外部设备。可以根据自身特定需求，选择合适的产品，并考虑不同的温度范围、容量、冷却能力、控制方式以及是否配备循环泵等因素。

一、TRL 系列通用核心特点

1. 温控系统

   全系列数字化 PID 闭环控温，常规机型稳定度 ±0.05℃，超高精度款可达 ±0.01℃；数显分辨率 0.01℃，低温无温度漂移。

2. 双工作模式

   ①槽内浸泡：样品、烧杯、器件直接槽内恒温；

   ②外接循环：标配 / 选配磁力循环泵，对外接反应釜、腔体、真空泵、光路、静电卡盘输送恒温冷媒。

3. 材质配置

   标配 SUS304 不锈钢内胆；腐蚀工况可选 SUS316 内胆、316 不锈钢盘管；全系环保无氟冷媒。

4. 安全防护

   漏电保护、低液位报警、超温停机、压缩机延时保护、传感器故障自检，无尘车间、半导体产线可稳定长期运行。

5. 搅拌结构

   螺旋桨全域搅拌 / 双流喷射搅拌，槽内温差极小，批量样品恒温一致性高。

二、全分类 + 全型号、参数、特点整理

第一大类：台式标准精密恒温槽（实验室 / 半导体湿法清洗主流）

1、TRL-101 系列（爆款通用款）

2、TRL-11L / TRL-11LP / TRL-11VP（桌面紧凑型）

• TRL-11L：-20~+80℃，22L，基础冷热一体，管路循环灵活

• TRL-11LP：可编程 20 段温控，小体量自动化实验

• TRL-11VP：-20~80℃，强防腐内胆，微量药液恒温

  适用：小型检测设备、芯片小样恒温、桌面设备内嵌冷却。

3、TRL-112Z（超高精度旗舰台式槽）

• 温控：-20℃~+80℃，容积 8L

• 稳定度：±0.01℃（全系民用槽最高精度）

• 定时：最长 99h59min 无人值守

  适用：半导体探针台标定、光学仪器、精密物性检测。

第二大类：程序控温恒温槽（元器件老化、温循测试专用）

1、TRL-140 / TRL-140P

• 温控：-45℃ ~ +50℃，34L

• TRL-140：标准恒温；TRL-140P：多段程序升降温，自定义温度曲线

• 稳定度：±0.1℃，1100W 大功率制冷

  半导体用途：芯片、封装器件高低温老化、可靠性温循测试、光刻胶固化实验。

2、TRL-130

• 温控：-35℃~+50℃，宽温程序控温，循环泵扬程 2m、流量 10L/min

  适用：第三代半导体材料循环温度测试、中试反应釜控温。

第三大类：高温强力冷却槽（高温工况设备散热）

TRL-750EX

• 温控：-5℃ ~ +80℃（行业少见 40℃以上依旧可制冷，普通机型 40℃压缩机会停机保护）

• 容积 34L，制冷功率 2300W，大流量循环泵

  用途：激光器、大功率真空泵、扩散炉、半导体大型设备高温散热、高负载恒温冷却。

第四大类：超低温深冷恒温槽（真空镀膜、冷阱专用）

1. TRL-070

   极限 - 75℃，16L，甲醇冷媒 4h 降温至 - 75℃，稳定度 ±0.05℃；真空腔体油气冷凝回收。

2. TRL-080Ⅱ

   旗舰深冷，极限-80℃，加强压缩机，第三代半导体、深冷捕集、超高真空配套。

第五大类：工业大容量循环恒温槽（产线量产、中试）

1. TRL-1500H / TRL-1500L

• TRL-1500H：-5℃~ 常温，66L；TRL-1500L：-35℃~ 常温，66L

• 循环泵：扬程 3m，流量 30L/min，大功率持续制冷

  用途：产线批量晶圆清洗槽、大型反应容器恒温。

2. TRL-2200H / TRL-2200L

   76L 超大槽体，温控 - 5~+80℃，循环流量 40L/min，工业中试、大型设备集中冷却。

第六大类：TRL 浸入式手部冷却器（灵活盘管，半导体点位冷却）

1. TRL-107NH/NHF：迷你 316 不锈钢盘管，-5~40℃，小型腔体、传感器降温；

2. TRL-117M/V：主力款 - 20℃，V 为 316 防腐盘管，蚀刻槽、旋涂机冷却；

3. TRL-117STS：-60℃，TRL-107SLCⅡ：-80℃，镀膜冷阱、深冷实验。

三、半导体行业精准选型对照表