简要描述：NIKKATO日陶 高纯精细氧化铝球
1913 年创立、东京上市（5367），总部大阪，百年精密陶瓷 + 高温热处理设备厂商，四大核心板块：工业精细陶瓷耗材、实验室理化陶瓷、高温加热 / 烧结炉设备、测量控制系统，覆盖半导体、MLCC、锂电、粉体、医疗、新材料、科研实验室全链条。

NIKKATO日陶 高纯精细氧化铝球

MLCC（多层陶瓷电容器）、纳米硅负极材料、CMP抛光浆料等**电子材料的制备过程中，研磨介质的纯度、硬度与尺寸精度直接决定着产品的*终性能。日本NIKKATO（日陶）公司SSA-999S氧化铝球作为高纯高性能级（99.9%）的代表产品，凭借其超高纯度、硬度与微米级球径，成为精密电子材料纳米级分散与研磨的biao杆性选择。

一、 SSA-999S产品定位：高纯高性能级的精密研磨专家

SSA-999S隶属于NIKKATO氧化铝球的高纯高性能级（High Purity & High Performance Grade），与同属99.9%体系的SSA-999W形成差异化定位：

与通用级HD系列（93%纯度）相比，SSA-999S的纯度提升带来了质的飞跃——杂质含量降低两个数量级以上，尤其对金属杂质（如Fe、Na⁺）和放射性元素（U/Th）实现了极严格的控制，确保不影响电子材料的介电性能和可靠性。

NIKKATO日陶 高纯精细氧化铝球二、 核心技术参数：99.9%纯度与1800HV硬度的**结合

SSA-999S采用超高纯度氧化铝（Al₂O₃ ≥ 99.9%）经精密烧结与表面处理工艺制成，其关键性能指标与同系列产品对比如下：

1. 纯度（99.9% Al₂O₃）

SSA-999S的氧化铝纯度达到99.9%，意味着杂质含量控制在0.1%以内。对于MLCC介质材料、压电陶瓷、磁性材料等电子元件而言，即使是ppm级别的金属杂质污染也可能导致介电性能下降或短路风险。SSA-999S将金属溶出量控制在＜0.1ppm（符合FDA标准），从研磨源头杜绝污染。

2. 超高硬度（1,800 HV10）

维氏硬度达到1,800 HV10，是通用级HD（1,100 HV10）的1.6倍。更高的硬度意味着在研磨高硬度物料（如碳化硅、氮化硅、各类陶瓷粉体）时，SSA-999S的自身磨耗率极低（约15 ppm/h），既延长了研磨介质的使用寿命，又进一步减少了磨耗产生的微粉污染。

3. 优化的密度（3.9 g/cm³）

密度为3.9 g/cm³，约为氧化锆球（6.0 g/cm³）的65%。这一特性使得SSA-999S在保持足够研磨动能的同时，填充重量更低，设备能耗更小，符合节能分散/粉碎的理念。

4. 优异的弯曲强度（450 MPa）

弯曲强度达到450 MPa，与SSA-999W持平，远高于通用级产品。在高冲击力的纳米研磨工艺中，更高的抗弯强度有效防止研磨球碎裂，确保研磨过程的稳定性和一致性。

三、 独特优势：微小球径与电解抛光表面

1. 微米级球径规格

SSA-999S*显著的特征在于其专为精密研磨优化的尺寸规格：

与SSA-999W（1-25mm）相比，SSA-999S的尺寸范围聚焦于0.5-5mm的微小球径，尤其包含0.5mm和0.8mm的超微球。这一规格设计使其能够满足：

• 纳米级分散：使用0.5-1mm球径可实现D50 ≤ 1μm的纳米级分散，适用于MLCC介质材料、纳米硅负极等**应用

• 高比表面积研磨：微小球径提供更大的接触面积，研磨效率显著提升

2. 电解抛光表面处理

SSA-999S采用电解抛光表面处理工艺，表面光洁度ji高，具有以下优势：

• 金属溶出极低：表面钝化层有效抑制金属离子溶出，金属溶出量＜0.1ppm

• 减少初始污染：新球使用前无需长时间预磨合，仅需2-3小时即可达到稳定状态

• 易于清洗：光滑表面不易附着残留物料，便于批次间切换清洗