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| 品牌 | NICCA/日华化学 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,石油,能源,电子/电池,半导体 |
配方:全合成水溶性,特种非离子 + 阴离子表面活性剂体系,低金属离子,无矿物油、无氯
外观:淡黄色透明浓缩液;稀释后为清澈水溶液
pH(原液):弱碱性;稀释工作液 pH 稳定
核心优势
ji强渗透性 + 润滑性,金刚石线与晶棒界面快速浸润,降低切割阻力
优秀悬浮分散能力,包裹硅粉 / SiC 粉,防止磨屑沉降、二次划伤、粘线
低泡配方,循环槽不易起泡,不影响流量与冷却
抗微生物,不易发臭变质,延长槽液寿命
低金属杂质(Na、K、Fe 等管控严格),减少晶圆表面金属污染,利于后续清洗
对粘棒胶(UV 胶、环氧树脂)侵蚀性低,不易脱棒
定位:通用型,单晶硅 / 多晶硅切片主力型号,性价比高
线锯切割是金刚石磨粒高速划擦硬脆晶棒,会产生大量热量 + 微粉。CL‑821 三大作用:
冷却:水基体系高热容量,快速带走切割区域摩擦热,抑制热应力,降低崩边、碎片。
润滑减阻:表面活性剂吸附在金刚石线、晶棒表面形成润滑膜,减少磨粒与工件摩擦,降低断线风险,延长金刚线寿命。
分散排屑:表面活性剂包裹硅微粉,让粉体悬浮在冷却液中,随循环流带走,避免粉末堆积在切割缝造成划伤、卡线。
稀释溶剂:超纯水 DIW
推荐浓度:2.0 ~ 4.0 wt%(硅常规切片 3%;厚晶棒 / 高难度切可上调至 4%)
配制顺序:先加水,再缓慢加入 CL‑821 浓缩液,搅拌均匀
槽液管理:监测浓度(折光仪)、pH、浊度;定期旁路过滤(5μm 滤芯),控制固体含量
温度:建议工作液温度 20~28℃;温度过高易降解、泡沫上升
换槽:根据产线粉尘负荷,定期整槽更换;补充时按折光读数补加原液
单晶硅、多晶硅硅锭切片(光伏硅片为主,也可用于半导体低阻硅衬底)
石英、光学玻璃、蓝宝石粗切片
适合常规金刚线,细线径也可使用
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