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| 品牌 | OHARA/小原株式 |
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i 线光刻镜头是多片消色差成像系统：冕牌 Y（低 nd 高阿贝正透镜）+ 火石 Y（高 nd 低阿贝负透镜）配对，校正 365nm 附近色差、球差；材料本身折射率均匀性 Δn 直接决定成像波前误差；如果玻璃内部折射率波动大，曝光图形会畸变、分辨率下降。
普通光学玻璃：紫外杂质多，365nm 吸收大；紫外照射产生色心（日晒黑化），长时间曝光透光衰减；退火应力大，折射率不均匀。
i 线 Y 系列：高纯原料熔炼，去除紫外吸收金属离子；特殊配方抑制紫外色心生成；长时间精密退火消除内应力，保证整块毛坯折射率高度一致。
高纯原料，铂金坩埚熔炼，避免金属污染；
二次重熔搅拌工艺，消除条纹、气泡；
超长周期精密退火，缓慢释放内应力，实现超高折射率均匀性；
每块毛坯干涉仪检测 Δn 均匀性、双折射、日晒性能，出具检测报告。
用于 i 线应用的高均匀性光学玻璃具有优异的内部透射率，并最大限度地减少了日光化（由于紫外光引起的着色），从而产生了用于半导体制造设备（步进机）和相关设备（用于照明等）的光学均匀玻璃。
特征：
01内部透射率（τ）
玻璃的透明度由光谱透射率 (τ) 表示，该透射率不包括表面反射损耗，图中显示了 365 nm 波长处的内部透射率保证值。然而，样品厚度为 10 mm。
02太阳能化
日光化程度可通过超高压汞灯照射后光谱透射率的降低来表示，照射波长对应于照射前光谱透射率为 80% 的波长。详细的测量方法和条件请参考“日本光学玻璃制造商协会标准（JOGIS）"。
03光学均匀性
我们使用氦氖激光干涉仪测量平行板玻璃的局部折射率变化 Δn 来保证其均匀性。Δn 的保证值可能因玻璃类型、尺寸和形状而异，因此对于直径小于等于 160φ、210φ 和 260φ 的玻璃，我们会分别标明其保证值。如果交付的玻璃厚度小于 25mm，我们将以 25mm 或更厚的临时厚度进行测量并保证其均匀性。我们还可以满足比标准值更严格的规格要求，欢迎随时联系我们。
04批次内折射率的变化
同一批次、相同退火处理后镍含量的偏差规格精确到小数点后第五位。例如：±1 (×10⁻⁵)
05性能容差
由于其特殊规格，折射率 (ni) 以高于目录值的折射率为基准，并在此基础上加上 ±20 的公差，精确到小数点后第五位。例如：+20±20
i 线 = 高压汞灯 365nm 紫外谱线；OHARA i 线 Y 系列是专门为半导体 i 线步进光刻机（Stepper）开发的高均匀光学玻璃，后缀 Y = i 线高均匀专用版本，同基材普通 S 系列≠i 线级，不能替代。搭配前面抛光方案：抛光推荐 清透精华液™-Z Z-08（镧系）/ Z-05（冕牌）
运用场景
半导体 i 线光刻（核心）
i 线步进光刻机（Stepper）投影物镜镜片（最主要）；
i 线光刻机照明系统：集光镜、准直镜、场镜、复眼透镜组件；
i 线掩膜检查设备、晶圆检测光学系统。
其他 365nm 紫外精密光学
大尺寸紫外曝光机镜头（PCB、面板、MEMS 光刻）；
紫外光谱仪、紫外干涉计量光学元件；
紫外成像系统、荧光检测光学。
| 型号 | 类别 | 10mm 厚 @365nm 内透过率 | 耐日晒 (Solarization) | 保证均匀性 Δn (×10⁻⁶) | 核心定位 |
|---|---|---|---|---|---|
| S-FSL5Y | 氟冕 | 99.9% | 优秀 | 1 | 超低色散，照明 / 准直正透镜 |
| S-BSL7Y | 轻冕 | 99.8% | 优秀 | 1 | 通用基础冕牌，i 线镜头主力正镜片 |
| BAL15Y | 钡冕 | 99.4% | 优秀 | 1 | 中等折射率正透镜 |
| BAL35Y | 钡冕 | 99.6% | 优秀 | 1 | 钡冕，像差校正 |
| S-FPL51Y | 氟磷冕 ED | 99.7% | 良好 | 2 | 超低色散 ED，校正二级光谱 |
| S-LAL54Y | 镧冕 | 99.2% | 良好 | 2 | 中高折射率镧系正镜片 |
| S-LAH63Y | 重镧冕 | 99.0% | 良好 | 2 | 高折射率镧冕，压缩镜头体积 |
| S-NBH59Y | 重钡火石 | 98.8% | 良好 | 2 | 高折射率火石，负透镜色差配对 |
| S-TIH11Y | 重火石 | 98.5% | 良好 | 2 | 高色散负镜片 |
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