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日本SEKISUI 积水568HM研磨用感压双面胶

简要描述:日本SEKISUI 积水568HM研磨用感压双面胶
研磨过程中,胶和附着体不会发生分离。
使用之后,能轻松清除,不留残余。
对应各种研磨垫的尺寸

基础信息

产品型号

厂商性质

经销商

更新时间

2026-10-08

浏览次数

28
详细介绍
品牌SEKISUI FULLER/积水应用领域能源,电子/电池,电气,半导体,机械设备

日本SEKISUI 积水568HM研磨用感压双面胶产品概述

该系列为CMP 化学机械研磨专用感热型双面胶,区别于普通感压胶:常温初粘很低,必须加热加压后才能产生高粘接力,专门用于硬质研磨垫和研磨机定盘(Platen)之间的固定。

核心优势:常温下可对位调整,加热固化后粘接强度高、抗滑移,适配硬度高的抛光垫。

规格参数汇总表

项目#568HM2#568HM#568HM2(188)#568HMG(75)
基材PET#23PET#23PET#188PET#75
总厚度163 μm163 μm328 μm190 μm
180° 剥离强度 SUS 定盘侧 (N/25mm)20202136
180° 剥离强度 SUS Pad 侧 (N/25mm)29292540
持粘力 40℃・1kg・1h 定盘侧 (mm)0.20.20.20.0
持粘力 40℃・1kg・1h Pad 侧 (mm)0.00.00.00.0
球型初粘力(定盘侧 4/32")202021<4
结构组成离型纸 + 60μm 丙烯酸胶 + PET#23+80μm 感热丙烯酸胶 + 离型膜离型纸 + 60μm 胶粘剂 + PET#23+80μm 胶粘剂 + PET 离型膜离型纸 + 60μm 丙烯酸胶 + PET#188+80μm 感热丙烯酸胶 + 离型膜离型纸 + 35μm 橡胶胶 + PET#75+80μm 感热丙烯酸胶 + 离型膜

日本SEKISUI 积水568HM研磨用感压双面胶 工况特点

系列共性工况特点

  1. 感热粘接机理:常温几乎无强粘性,可反复对位;施加加热 + 压力后,感热胶层活化,形成稳定高强度粘接。

  2. 适配硬质研磨垫:胶层固化后刚性高,研磨过程抗形变,维持研磨平面度,适合硬度高、不易贴合的抛光垫。

  3. 优秀持粘抗滑移:Pad 侧持粘力 0.0mm,研磨受力时研磨垫不会移位,保证 CMP 研磨均匀性。

  4. 粘接牢固:加热后双面剥离力高,研磨工况下耐浆液冲刷、耐持续剪切力。

各型号差异化工况特点

  1. #568HM2PET#23 薄基材,总厚 163μm;Pad 侧 & 定盘侧均为强粘,定盘侧刚性良好。薄款,适合常规硬质研磨垫标准工艺。

  2. #568HM厚度、剥离力参数和 #568HM2 一致,差异仅在离型膜为 PET 离型膜;同样薄基材,定盘侧刚性好,Pad 侧强粘。

  3. #568HM2(188)PET#188 厚基材,总厚 328μm,胶带刚性更大。适合对胶带平整度、抗变形要求高,需要厚胶层缓冲的 CMP 工艺。

  4. #568HMG(75)PET#75 基材,橡胶胶 + 感热胶复合体系;剥离力全系列最高;常温初粘极低(<4),常温几乎不粘手,加热后chao强粘接;贴合定盘时有方向性,胶带强度、刚性大。适合对粘接强度要求ji高的工况。

应用场景

  1. 核心场景:半导体 CMP 化学机械抛光晶圆、碳化硅、蓝宝石等硬质材料抛光,硬质研磨垫固定(研磨垫 ↔ 研磨机定盘)。

  2. 工艺适配说明

    • 适合硬质抛光垫(普通软质研磨垫优先选用积水感压双面胶)

    • 产线具备热压贴合工序:贴合工位需要加热加压设备激活胶层

    • 适合长时间研磨、高剪切力、要求研磨垫不位移的抛光工艺

  3. 选型参考

    • 常规硬质垫,薄胶层:#568HM2 / #568HM

    • 需要高刚性、厚胶层:#568HM2 (188)

    • 需要ji致粘接强度,常温防粘:#568HMG (75)


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