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| 品牌 | OTSUKA/大塚电子 |
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微小光斑测量：最小光斑 Φ3μm，专门针对光刻图案、晶圆微区、像素单元微小区域膜厚检测，普通膜厚仪做不到微区点位测量
极宽膜厚量程：SiO₂等效1nm～92μm，超薄氧化膜、厚光刻胶、多层复合膜均可解析；可解析最多 10 层多层薄膜结构，同时输出 n/k 光学常数
单点高速检测：对焦 + 测量≤1 秒 / 点，支持 XY 自动平台 Mapping 面扫描，自动生成 2D/3D 膜厚分布云图，支持 300mm 大晶圆平台选配
透明基板背反射去除技术：解决 PET / 玻璃等透明基材背面反光干扰，真实解析膜层光学参数，这是 OPTM 核心优势，区别普通分光膜厚仪宽光谱覆盖 UV～NIR（230～800nm / 360～1100nm / 900～1600nm 多种光学头可选），氘灯 + 卤素复合光源，适配有机膜、介质膜、金属薄膜等不同材料
两种形态可选：台式整机（带自动 XY 载台，实验室离线检测）；独立测量探头（可嵌入产线设备，Inline 在线集成），可对接自动化 PLC、机械手
软件友好：内置简易解析向导，新手可快速搭建多层膜光学模型；支持宏程序自动测量序列、数据导出、批量报表；4 种解析算法（峰谷、FFT、最小二乘法等）适配不同膜层
高精度重复性：SiO₂薄膜，100nm 以下重复性可达0.1nm；100nm 以上精度约 0.07%，绝对反射率可定量检测
| 型号 | 波长范围 | SiO₂等效膜厚范围 | 最小光斑 | 典型适用膜层 |
|---|---|---|---|---|
| OPTM-A1 | 230～800nm | 1nm～35μm | 3/5μm | SiO₂、SiN、光刻胶、PI、ITO、紫外敏感膜（半导体 / FPD 主力款） |
| OPTM-A2 | 360～1100nm | 7nm～49μm | 3/5μm | 厚光刻胶、AR/HC 功能膜、TAC/PET、DLC 涂层 |
| OPTM-A3 | 900～1600nm | 16nm～92μm | 5μm | 厚介质膜、厚有机封装膜、厚光学涂层 |
补充同家族参考机型：FE-300 / FE-3000（非显微普通分光膜厚，光斑更大，不适合微图案晶圆）
样品状态：固体基板上的半透明 / 透明薄膜（介质膜、有机膜、薄金属吸收膜）；样品表面清洁，无大量粉尘、油污
环境条件：实验室 / 洁净车间，环境温度 18～28℃，温湿度稳定；避免强光直射、剧烈震动；洁净等级 Class10000 及以上更佳（半导体晶圆检测）
样品尺寸：台式机型可承载最大 300mm 晶圆；嵌入型测头可集成在真空腔体、载台自动化产线（非真空直接测量，光学窗口透射检测）
样品表面：允许有光刻微图案、凹凸微结构；只要膜层存在上下界面反射光即可测量
Si 晶圆：栅氧化膜 SiO₂、SiN 氮化层、光刻胶、SOI 顶层硅膜厚监控；CMP、刻蚀、薄膜沉积工艺品质管控
SiC/GaN/ 砷化镓：宽禁带功率器件介质膜、钝化膜；LED 蓝宝石衬底上 GaN 外延层、钝化膜检测；晶圆微区 Pattern 点位 Mapping 扫描
LCD：CF 彩色滤光层、PI 取向膜、ITO 导电膜、PS 间隔物；OLED：有机发光层、封装薄膜、阻挡膜，像素微小区域膜厚均匀性检测
AR 减反膜、HC 硬化膜、防指纹涂层；PET/PEN/TAC/PC 光学膜、偏光膜、相位差膜、纳米银线导电膜；镜头镀膜、光学滤光片膜层检测
DLC 类金刚石涂层、硬质涂层、医用器械涂层；胶粘剂、保护膜、涂布薄膜；HDD 硬盘磁头磁性薄膜等
材料开发、多层膜光学模型验证、n/k 光学常数标定，替代部分椭偏仪应用场景，性价比更高
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