润华全芯：光刻涂胶显影+湿法工艺装备厂商

公司简介

宁波润华全芯微电子设备有限公司（ALLSEMI，简称润华全芯），2016 年成立，总部宁波余姚，国家ji专精特新小巨人、高新技术企业，通过 ISO 及 SEMI S2 安全认证，国内匀胶显影、单片湿法刻蚀、去胶剥离设备国产主力厂商，在深圳、广州、上海、南京多地设有服务网点，聚焦光刻前段涂胶显影、湿法清洗刻蚀、剥离工艺装备研发制造，深耕化合物半导体、MEMS、光通信滤波器、先进封装、功率器件赛道，是特色工艺产线湿法与光刻配套国产替代标gan企业。公司主营全自动匀胶显影机、单片湿法刻蚀机、去胶剥离机、单片清洗机，覆盖光刻胶旋涂、烘烤、显影、湿法腐蚀、光刻胶去除、金属剥离、颗粒清洗全流程。下游客户覆盖 SiC/GaN 功率厂、射频 MEMS、光芯片、滤波器厂商、先进封测企业及科研院所；设备兼容 2–12 英寸晶圆、蓝宝石、玻璃、铌酸锂等异形衬底，大量落地第三代半导体、光通信、特色工艺产线，适配 90nm 及以上节点工艺，是国内特色工艺湿法 + 涂胶显影设备重要供应商。

核心产品矩阵

1. ACD 系列匀胶显影机（Coater & Developer）全自动涂胶显影平台，8/12 英寸机型为主，支持 I-line、KrF 光刻胶、PI、SOG 等材料，集成旋涂、边缘除胶 WEE、热板烘烤、冷却、显影单元，可对接光刻机 Inline 联机，适配功率器件、MEMS、先进封装光刻工艺，兼容超薄、翘曲晶圆处理宁.。

2. AEH 系列单片湿法刻蚀机多腔单片湿法腐蚀设备，可实现氧化硅、氮化硅、多种金属薄膜湿法刻蚀，药液独立循环过滤，支持 Nano spray 喷淋、IPA 氮气干燥，颗粒管控优异，广泛用于射频器件、光芯片、功率衬底加工。

3. AST 系列去胶剥离机（Stripper/Lift-off）干进干出去胶、金属剥离一体机，浸泡 - 剥离 - 清洗腔体模块化配置，适合金属蒸镀后 Lift-off 工艺、厚胶去除，适配 GaAs、GaN、铌酸锂光调制器、滤波器工艺，剥离效率高、金属残留低宁波润华全...。

4. ACL 单片清洗机单片式喷淋清洗设备，用于来料清洗、CMP 后清洗、背面清洗、光刻残留清洗，多喷臂组合，精准控制药液与 DIW，颗粒与金属离子管控严格，适配化合物半导体、光学衬底清洗需求宁波润华全...。

5. 半自动机型与工艺单元半自动匀胶显影平台、高精度热板、晶圆定位系统、精密胶泵模块，面向实验室、研发线、小批量试产场景，灵活适配多种新材料工艺开发。

客户覆盖第三代半导体、射频 MEMS、光通信、光学芯片、先进封装企业；设备在国内多条 6/8 英寸特色工艺产线稳定量产，12 英寸机型持续验证导入。

产品工况特点

润华全芯涂胶显影、湿法刻蚀剥离设备部署于百级洁净车间，涉及光刻胶、酸碱腐蚀药液、高纯氮气干燥、真空吸附、精密供液场景，对管路耐化学腐蚀、流量精度、洁净低析出、颗粒控制要求严苛，工况特征如下：

• 强腐蚀性药液、多化学介质共存工况湿法腔体、供液回路接触酸、碱、有机溶剂、剥离液、光刻胶等化学介质；管路、密封件、阀组必须耐多种化学腐蚀，抗溶胀、不析出杂质，一旦密封失效、介质交叉污染，直接造成刻蚀速率漂移、图形报废。

• 精密液体输送 + 微量氮气吹扫干燥工况胶路、药液回路流量需要高精度稳定控制；IPA 干燥单元依靠高纯氮气吹扫干燥晶圆，气流压力、流量波动会导致水痕、斑点、图形缺陷。流体控制器、调压组件、密封件长期稳定无漂移是良率关键。

• 超高洁净、严格颗粒管控匀胶腔体、湿法工艺腔、晶圆传输路径属于高洁净管控区；密封圈、管路析出物、脱落微颗粒附着晶圆表面，会造成针孔、断条、图形缺陷，设备全流体组件满足 SEMI 洁净标准。

• 热交变与溶剂挥发环境热板烘烤单元持续高温，腔体内部伴随光刻胶、溶剂挥发；密封辅件需要耐温、耐溶剂侵蚀，长期使用不硬化、不渗漏，防止 VOC 析出污染腔体。

• 7×24 小时自动化量产，对接 FA/MES 系统FOUP 自动上下片、多腔并行工艺、药液循环再生、废液自动排放全流程自动化；实时上传温度、流量、工艺时间、腔体状态数据，对接工厂 MES 系统，支持批次追溯，适配特色工艺持续量产。

• 多衬底、多工艺柔性兼容机台支持硅片、SiC、GaN、蓝宝石、铌酸锂、玻璃等不同衬底，可快速切换光刻、湿法腐蚀、剥离配方，兼顾研发工艺开发、中试与大批量量产。

玉崎半导体合作逻辑

双方合作主线：国产匀胶显影、湿法工艺装备产业化落地 + 高纯流体、耐化学腐蚀密封、真空精密零部件供应链保障，聚焦新建特色工艺、第三代半导体产线装机、存量产线维保改造两大场景深度产业链协同。

1. 供应链补链：补齐光刻胶供胶回路、湿法药液管路、氮气吹扫气路辅件短板润华全芯专注工艺腔体、喷淋系统、热板温控、供液算法、整机集成开发；光刻胶输送管路、湿法腐蚀药液回路、IPA 干燥氮气吹扫回路配套波纹管、耐化学特种密封件、高纯阀组、压力 / 流量控制器、流体传感器大量依赖日系、欧美进口元器件。该类元器件耐多种化学品、低析出，湿法与光刻设备认证周期长，国产化成熟度有限。玉崎半导体作为日系工业零部件华南一级代理商，提供原装正品、稳定库存、本地化快速交付，解决整机装配、备件替换时进口件交期长、采购渠道分散痛点，保障整机交付进度与现场维保响应效率。

2. 工艺场景协同，保障药液输送、吹扫流体子系统长期稳定涂胶均匀性、湿法刻蚀一致性、干燥良率核心取决于药液流量稳定、氮气吹扫气流平稳、管路耐腐蚀无析出。玉崎半导体结合湿法强腐蚀、光刻溶剂挥发、高洁净防颗粒严苛工况，提供耐酸碱有机溶剂、低放气密封件、高纯流体组件选型和工况验证。新建 SiC/GaN 功率、射频 MEMS、光芯片产线项目中，润华全芯提供匀胶显影、湿法刻蚀、去胶剥离主机，玉崎配套耐腐蚀流体、洁净密封辅件与现场技术支持，减少终端客户多供应商对接成本，防止管路渗漏、介质交叉污染、颗粒引入，保障光刻图形、湿法形貌稳定，提升晶圆良率。

3. 区域市场协同，深耕华南第三代半导体、光芯片、先进封装集群华南聚集大量 SiC/GaN 功率器件、射频滤波器、光通信芯片、先进封装企业，是润华全芯重点拓展市场。玉崎半导体扎根华南，本地仓储 + 快速上门技术服务，双方联动，快速响应华南客户新机导入、产线技改、备件更换需求，缩短工艺验证落地周期，共同拓展车规功率、光通信、射频器件赛道。

4. 长期产业目标，助力特色湿法、光刻配套装备供应链自主可控短期：依托高品质进口耐腐蚀流体、特种密封辅件，保障润华全芯匀胶显影、湿法刻蚀剥离设备稳定装机，加速在 8/12 英寸化合物半导体、MEMS 特色产线批量验证导入；中长期：联合开展零部件耐多化学品腐蚀、溶剂析出工况测试验证，推动密封、流体辅件国产化替代，降低国产湿法、涂胶显影整机对外购零部件依赖，服务特色工艺装备国产替代战略。

结语

润华全芯依托光刻涂胶、单片湿法喷淋工艺积累，打造匀胶显影、湿法刻蚀、去胶剥离一体化湿法工艺装备平台，补齐国内特色工艺、化合物半导体光刻前段与湿法工艺设备短板。稳定的光刻涂胶、湿法腐蚀、金属剥离量产，离不开耐化学高纯流体回路、抗腐蚀特种密封子系统支撑。润华全芯与玉崎半导体的协同，是国产特色湿法工艺装备龙头与gao端工业零部件服务商典型产业链互补合作，通过供应链补链、一体化配套方案交付，共同赋能国内第三代半导体、射频 MEMS、光通信与先进封装产业高质量发展。