NICCA 日华化学｜PA890 循环式研磨液新品上市

NICCA 日华化学｜PA890 循环式研磨液新品上市

NICCA 日华化学推出 PA880（主抛）、PA890（终抛）直排式胶体二氧化硅 CMP 研磨液，专为半导体衬底硬脆材料精密平坦化打造

🔹PA880｜主抛专用高去除速率，优秀全局平坦化；窄粒径分布，大颗粒管控严格；适合硅衬底、氧化硅介质层主抛光，直排一次性使用，工艺稳定。

🔹PA890｜镜面精抛改性超细胶体硅配方，化学作用温和；超低划伤，抛光后表面 Ra 极低；用于硅、SiC、蓝宝石衬底终抛，成品镜面效果优异。

✨核心亮点✔直排式一次性供液，无浆料回混污染，批次稳定性强✔低金属离子，高纯度胶体硅磨料，缺陷可控✔可配套 NICCA CL 切割液、L‑630 清洗剂，形成切片 - 抛光 - 清洗完整材料方案✔本地化技术支持，可安排试样与工艺评估

面向半导体硅衬底、功率器件 SiC 衬底、蓝宝石光学基材抛光客户，欢迎咨询试样！