简要描述：BROOKS布鲁克斯 GP金属密封式流量控制器
GP200 系列是shou款专为半导体制造中的优良刻蚀和沉积工艺设计的、wan全不依赖压力的压力式质量流量控制器（P-MFC）

BROOKS布鲁克斯 GP金属密封式流量控制器
BROOKS布鲁克斯 GP金属密封式流量控制器

GP200 系列 P-MFC 采用**架构，突破了传统 P-MFC 的局限，即使在输送低蒸气压工艺气体时，也能提供***的工艺气体输送。该产品具备多项独特设计，包括集成式压差传感器与下游阀门架构的结合，可在业内*广泛的工作条件下实现***的工艺气体输送。

由于 GP200 系列支持如此广泛的工艺条件，因此可作为许多传统压力式微量气流控制器（P-MFC）和热式微量气流控制器（thermal MFC）的直接替代品和升级方案。它消除了对压力调节器和传感器等组件的需求，从而降低了供气系统的复杂性和拥有成本。

功能

• 真实差压测量

• 低入口压力运行

• 下游阀结构

• 匹配的瞬态响应

• 零泄漏控制阀

• MultiFloTM 该技术提供了****的灵活性——只需对单台设备进行编程，即可实现数千种不同的气体和流量范围配置，且无需将MFC从气路上拆下，也不会影响测量精度

• 本地显示屏显示流量、温度、压力和网络地址

• DeviceNetTM, 经 ODVA 认证,  EtherCAT®, RS-485 L协议和模拟接口

应用

• 半导体制造

• 蚀刻

• 化学气相沉积（CVD）

• 需要高纯度全金属流道的气体流量控制应用

优势

• GP200差压技术消除了对两个独立压力传感器进行匹配和补偿的要求，从而降低了测量不确定度，提高了测量精度、重复性和漂移性能。

• 如今，借助 P-MFC，在较低进气压力下也能实现更**的晶圆厂运行，这得益于专门针对低压差测量进行优化的 GP200 压差传感器。

• 下游阀门结构确保了精度不受下游压力影响，从而能够在高达 1200 Torr 的压力下输送流体。快速关闭阀门解决了上游 MFC 阀门设计中常见的非生产性配方等待时间（即“尾效"），因为后者需要额外时间来排空其内部气体。

• 超快的上升和下降流速稳定时间以及ji高的重复性，使得在优良的高循环沉积和刻蚀工艺中能够实现更严格的工艺控制。
  阀门关闭性能提升100倍

• 借助 MultiFloTM 技术，MFC 的满量程流量范围通常可按 3:1 的比例缩小，且不会影响精度、调节比或泄漏量（符合规格要求），从而实现工艺和库存管理的*大灵活性

• 便捷的用户显示屏和独立的诊断/服务端口有助于设备的安装、监控和故障排除