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| 品牌 | CKD/日本喜开理 | 种类 | 其他 |
|---|---|---|---|
| 压力环境 | 其他 | 工作温度 | 其他 |
| 流动方向 | 其他 | 零部件及配件 | 其他 |
| 类型(通道位置) | 其他 | 应用领域 | 化工,电子/电池,电气,半导体,机械设备 |
日本进口CKD喜开理AMD 系列高纯化学药液阀
日本进口CKD喜开理AMD 系列高纯化学药液阀
介质接触面全 PFA/PTFE 无金属浸润（AMD-1M 全无金属高纯款），杜绝金属离子析出污染晶圆，满足 Class1 超高纯制程；阀体驱动外壳 PVDF 氟塑料，耐 HF qin氟酸、强酸强碱、光刻有机溶剂。
规格：AMDZ (微型)、AMD0/01/02/03/04，接口 1/8"~1"（3mm~25mm），节流孔径 2~22mm；
标准 3R 系列：耐压0~0.5MPa，流体温度 - 10~120℃；
1H 高压款：耐压 0.7MPa，适配高压供液管路；1M 无金属特化款：高浓度qin氟酸专用。
可选：阀体开关反馈传感器、流量微调、低水锤结构；分 2 通（AMD）、3 通换向（AMG）两种阀体。
产品参数：阀腔通体 PFA/PTFE，耐 HF、强酸强碱，工作压力 0~0.6MPa，耐温 - 10~90℃；规格 AMD00/01/02/03/04，接口 1/4"~1"。
应用：晶圆清洗机、单片蚀刻、显影设备药液通断。
单片晶圆清洗机（RCA 清洗）：切换 SC1/SC2/DHF/SPM 各类清洗药液、DI 超纯水通断；
涂胶显影机 Coater/Developer：光刻胶、显影液、剥离剂精准供液切断（3 通 AMG 用于药液 / 废液换向）；
湿法蚀刻设备：硅片酸蚀、碱蚀药液循环、排液开关；
化学品集中供液 CDS 系统：酸碱药剂储罐后端支路主控阀；
配套：8/12 寸晶圆湿法设备、面板 LCD 湿制程。
型号：AMD00/AMD01/AMD02/AMD03/AMD04（口径 1/4″~1″）
参数：全 PTFE+PFA 膜片，耐 HF、H₂SO₄、氨水、显影液；耐压 0~0.6MPa，耐温 - 10~90℃；无金属浸润、低析出、Class1 洁净。
场景：晶圆清洗机、单片式蚀刻机、显影机药液通断、酸碱管路开关。
型号 AMB00~AMB03：金属波纹管隔绝，零渗漏，超纯水、超高纯试剂输送；
场景：CMP 研磨液供给、高纯 DI 水分配、微量药剂配比。
PMM01/PMM02：PFA 阀体，24VDC 电控，小流量药剂精准切断；
场景：小型湿制程机台药剂支路、实验室晶圆小样设备。
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