简要描述：NICCA日华化学PA880 直排式研磨液
PA-880粘度更大，滞留性更强，悬浮分散性更好，因此可以有效提高磨料的使用效率。

NICCA日华化学PA880 直排式研磨液特征

挂壁时间试验方法：

1. 按80g水+ 20gAl2O3磨料+ 6g研磨液的比例，配制工作液；

2. 取1g工作液滴加在倾斜25°左右的铁盘上，记录液体从上流到下的时间

• 磨料体系：胶体二氧化硅（Colloidal Silica），单分散纳米颗粒，粒径窄分布，大颗粒管控严格，低划伤

• pH：碱性体系（pH9~11）

• 固含量：约 20~30wt%，浓缩液，现场可稀释使用

• 核心特点：高平坦化能力、低表面缺陷、分散稳定性强，长时间静置沉降少；对氧化层（SiO₂）去除速率稳定；金属离子含量低，适合衬底 / 介质层抛光；兼容性好，适配各类抛光垫。

• 定位：中粗抛 / 主抛，兼顾去除速率与片内均匀性（WIWNU）

NICCA日华化学PA880 直排式研磨液工作原理（CMP 化学机械协同）

1. 化学作用：碱性环境下，二氧化硅磨料表面羟基化，晶圆氧化层表面发生水合反应，生成松软的水合氧化硅层；

2. 机械作用：抛光垫压力 + 相对运动，纳米二氧化硅颗粒把表层软化后的水合层机械剥离；

3. 浆料持续流动带走剥离产物，防止磨屑回沾，持续更新反应界面，实现全局平坦化。

📌 运用场景

• 硅片衬底抛光（Si substrate）

• 氧化硅介质层 ILD、STI 浅沟槽隔离层主抛光

• 石英、光学玻璃、蓝宝石基板中抛

• 封装基板介质层平坦化