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| 品牌 | HONDA/本多电子 | 产地类别 | 进口 |
|---|---|---|---|
| 应用领域 | 化工,能源,电子/电池,电气,半导体 |
SUS316L 电解抛光振板接液板材 SUS316L,表面电解抛光,低析出、耐酸碱药液(SC1、SC2、稀 HF 等半导体清洗药液),无金属污染风险,满足半导体洁净等级要求。
超薄平板结构,槽底嵌入式安装扁平薄型振板,直接安装在清洗槽底部,不占用槽内工件空间;振板平面均匀辐射 1MHz 兆声波,声场均匀,减少驻波造成的清洗不均。
低损伤兆声波声场,适配晶圆单片 / 批量槽洗1MHz 高频,以声流 + 微空化为主,对晶圆、软质光学件冲击力柔和,去除亚微米颗粒,不产生表面蚀坑。
特殊 PZT 压电换能器,密封封装本多定制 PZT 振子,一体密封,耐长期药液浸泡;出厂预校准谐振,和 W-357BM 发生器自动频率追踪匹配。
标准 5m 驱动线缆600F 配 1 根 5m 线缆;1200F 配 2 根 5m 线缆,发生器可远程摆放,方便自动化清洗机布局。
规格对应固定晶圆尺寸
600F:适配6 英寸晶圆
1200F:适配8 英寸晶圆
发生器(W-357BM 主机)输出 1MHz 高频电信号,通过 5m 电缆输送到 F 振板背面的 PZT 压电换能器;压电陶瓷将高频电能转化为高频机械振动,直接带动SUS316L 振板整体面振动;振板把 1MHz 振动传入清洗液,产生微空化泡 + 定向声流效应,从工件表面剥离亚微米颗粒、研磨残渣、光刻胶残留;
对比 S 型(槽体一体式):F 振板是独立平板组件,可单独嵌入客户自有清洗槽,设备集成自由度更高。
| 项目 | W-357BM-600F | W-357BM-1200F |
|---|---|---|
| 配套发生器 | W-357BM-600 | W-357BM-1200 |
| 标称频率 | 1 MHz | 1 MHz |
| 最大容许输入功率 | 600W | 1200W |
| 有效辐射面(W×D) | 135 × 160 mm | 272 × 154 mm |
| 振板外形尺寸 (W×D×H) | 250 × 220 × 68 mm | 355 × 245 × 68 mm |
| 接液材质 | SUS316L,电解抛光 | SUS316L,电解抛光 |
| 振板重量 | 3.3 kg | 7 kg |
| 适用晶圆 | 6 英寸 | 8 英寸 |
| 换能器线缆 | 5m ×1 | 5m ×2 |
| 允许液体温度 | 5~80℃ | 5~80℃ |
| 振子材质 | 专用 PZT 压电陶瓷 | 专用 PZT 压电陶瓷 |
半导体湿法槽式清洗6 寸 / 8 寸硅晶圆、蓝宝石晶圆,抛光后颗粒去除、光刻胶残屑、研磨液残渣清洗;批量槽式湿法清洗台。
精密存储元器件硬盘磁头、盘片亚微米微粒清洗。
光学精密基材镜面抛光铝件、光学基片、MEMS 器件、掩膜版清洗(不能承受低频超声冲击的工件)。
自动化清洗产线集成客户自制清洗槽,直接嵌入 F 振板,搭配 W-357BM 发生器,接入 PLC、MODBUS 通讯,做成全自动湿法清洗设备。